材料研究学报

作者：刘晓东,谈淑咏,霍文燚,张旭海,邵起越,方峰

单位：1. 东南大学 江苏省先进金属材料高技术研究重点实验室 南京 2111892. 南京工程学院材料工程学院 南京 211167

关键词：磁控溅射,x')"href="#">(CoCrFeNi)Nx,材料表面与界面,硬度,电阻率,磁性能

基金：国家自然科学基金项目(51371050);江苏省产学研前瞻性研究项目(BY2016076-08);江苏省六大人才高峰项目(2015-XCL-004);张家港市重点研发项目(ZKG1614);江苏省先进结构材料与应用技术重点实验室开放基金(ASMA201708)

采用直流磁控溅射法制备(CoCrFeNi)Nx高熵薄膜，研究了氮流量比对薄膜的力学性能和电磁性能的影响。结果表明，在不同氮流量比条件下制备的(CoCrFeNi)Nx薄膜，都具有致密的组织、简单的FCC结构并呈现(200)择优取向。随着氮流量比从10%提高到30%，薄膜的硬度和弹性模量随之增大，其最大值达到14 GPa和212 GPa；电阻率基本上呈增大的趋势，最大值达到138 μΩ?cm；饱和磁化强度和磁导率随之减小，薄膜饱和磁化强度最高为427.43 emu/cm3。薄膜的矫顽力约为0。

来源：2019年第3期

《材料研究学报》期刊编辑部

查看材料研究学报杂志2019年第3期