国内刊号:21-1328/TG
国际刊号:1005-3093
发布日期:
作者:张栋,柯培玲,汪爱英,王香勇,智理
单位:1. 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室;浙江省海洋材料与防护技术重点实验室 宁波 3152012. 宁波中骏森驰汽车零部件股份有限公司 慈溪 315300
关键词:材料表面与界面,氧化硅薄膜,等离子体增强化学气相沉积,功能装饰
基金:宁波市工业重点项目(2017B10042);慈溪市工业科技计划(2015A07)
用PECVD技术制备氧化硅薄膜,研究了生成样品的位置对薄膜成分、结构和性能的影响,探讨了制备兼具高透光性和耐刮擦性的功能装饰氧化硅薄膜的方法。结果表明,在阳极位置生成的薄膜具有Si(CH3)nO有机氧化硅结构,在380~780 nm波长范围内透光率高达90%~98%,但是薄膜的结构疏松,硬度仅为2 GPa。提高制备温度可使薄膜硬度提高至6 GPa,但是透光率略有降低;在阴极位置生成的薄膜具有无机氧化硅复合非晶碳结构,薄膜结构致密,硬度可达15 GPa,但是在380~780 nm波长范围内透光性差;增加O2反应气体可促使碳与氧反应生成二氧化碳,非晶碳结构消失,薄膜透光率提高到99%,但是硬度降低到9 GPa。
来源:2019年第6期
《材料研究学报》期刊编辑部