材料研究学报

北大核心,CA,JST,EI,CSCD

国内刊号:21-1328/TG

国际刊号:1005-3093

材料研究学报杂志2020年第3期:钴掺杂TiO2纳米管阵列薄膜的制备及其光催化还原性能

发布日期:

作者:王世琦,霍文燚,徐正超,张旭海,周雪峰,方峰

单位:1. 东南大学材料科学与工程学院 南京 2111892. 张家港格林台科环保设备有限公司 苏州 215625

关键词:无机非金属材料,磁控溅射,阳极氧化,光催化还原,二氧化钛,薄膜

基金:江苏省333工程资助项目(BRA2018045);江苏省自然科学基金(BK20180264)

用磁控溅射法在ITO玻璃基底上制备Ti-Co合金薄膜,对其阳极氧化处理制备出钴掺杂TiO2纳米管阵列薄膜,研究了钴掺杂对纳米管阵列薄膜的形貌、结构、吸收光谱以及光催化还原性能的影响。结果表明:钴掺杂TiO2纳米管阵列薄膜为锐钛矿相,管状阵列的管径均一、排列规整。钴掺杂使薄膜形成(001)择优取向。随着钴掺杂量的提高,薄膜吸收可见光的能力提高。钴含量(原子分数)为0.19%的薄膜光催化性能最优,可见光照150 min后对Cr(VI)的还原率可达98.4%。

来源:2020年第3期

《材料研究学报》期刊编辑部

查看材料研究学报杂志2020年第3期

声明

严正声明:本站非期刊官网,非中介代理。

本站仅提供学术规范服务:快速预审、润色编辑服务、中英文查重、降重、去重服务、推荐合适的期刊投稿等学术规范服务。 如需提供学术规范服务请联系在线编辑。

联系我们

  • 地址:沈阳市文化路72号, 中国科学院金属研究所
  • 电话:+86-024-23971297
  • E-mail:cjmr@imr.ac.cn

咨询工作人员