材料研究学报

作者：玄京凡, 范红玉, 白樱, 胡瑞航, 李昕洋, 陶文辰, 倪维元, 牛金海

单位：大连民族大学 辽宁省等离子技术重点实验室 大连 116600

关键词：金属学,多晶钨,氢离子辐照,刻蚀

基金：国家自然科学基金(11405023);辽宁省自然科学基金(20180510006);辽宁省自然科学基金(2019-ZD-018);大连市青年科技之星项目(2017RQ149);大连民族大学大学生创新创业训练项目(202012026596);大连民族大学“太阳鸟”学生科研项目(tyn2020302)

在聚变相关的钨(W)偏滤器辐照下，研究了低能大流强氢(H)离子辐照对多晶钨材料的刻蚀行为。使用扫描电子显微镜(SEM)、导电原子力显微镜和基于SEM的电子背散射衍射等手段研究了大流强(~1022 ions/m2·s)、剂量为1.0×1026 ions/m2、能量为5~200 eV的氢离子辐照对多晶W材料表面刻蚀行为的影响。结果表明，随着H离子辐照能量的增加W的溅射率迅速提高，W表面发生刻蚀后产生条纹状结构，而且同一晶粒上条纹的方向具有一致性，条纹两侧的缺陷分布明显不同，意味着W表面的刻蚀优先沿某一特定晶面方向进行。

来源：2020年第9期

《材料研究学报》期刊编辑部

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